[发明专利]一种硅晶片清洗剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202210795380.7 | 申请日： | 2022-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN115044421A | 公开（公告）日： | 2022-09-13 |
| 发明（设计）人： | 江铭荣 | 申请（专利权）人： | 宜兴市华青润滑材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/10;C11D3/20;C11D3/32;C11D3/37;C11D3/48;C11D3/60 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 周高 |
| 地址： | 214200 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅晶片清洗剂，涉及硅晶片领域，所述硅晶片清洗剂包括重量份数的如下组分：20‑30份的基底材料，10‑15份的低HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚，6‑10份的高HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚，2‑5份的杀菌剂，2‑5份的二乙二醇、1‑3份的消泡剂、5‑8份的硅酸盐类抗氧化剂和30‑40份的纯水；此外，还提供了硅晶片清洗剂的制备方法，包括：加入低HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚和高HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚，搅拌至均匀，得到基底溶液；向基底溶液中边搅拌边加入纯水；向反应容器中加入剩余材料，搅拌均匀，得到最终成品；通过上述技术方案，解决现有技术中硅晶片清洗剂中涉及到多种包含钠的金属离子，清洗结束后容易产生金属离子残留，从而影响清洗效果的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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