[发明专利]一种金属化电路基板的阶梯图形蚀刻方法在审
申请号: | 202210805397.6 | 申请日: | 2022-07-08 |
公开(公告)号: | CN115023055A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 冯家云;赵建光;岑福星 | 申请(专利权)人: | 南京中江新材料科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;G03F7/20;G03F7/32;G03F7/42 |
代理公司: | 南京明杰知识产权代理事务所(普通合伙) 32464 | 代理人: | 张文杰 |
地址: | 211161 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及半导体技术领域,尤其是一种金属化电路基板的阶梯图形蚀刻方法,具体包括以下步骤:(1)线路图形曝光;(2)产品显影;(3)再次曝光;(4)线路蚀刻;(5)氢氧化钠显影;(6)再次蚀刻;(7)有机剥除剂清洗。本发明的阶梯蚀刻方法工艺简单,不需要两次贴膜,则可以完全保留常规金属化电路板所具有的产品性能,并可以完全规避二次贴膜带来的不良缺陷,本发明优化了生产工艺,大大节省了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属化 路基 阶梯 图形 蚀刻 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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