[发明专利]使遮罩曝光于极紫外光的方法以及极紫外光微影系统在审
| 申请号： | 202210864126.8 | 申请日： | 2022-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN115524937A | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 谢劼;陈泰佑;林卓颖;简上傑;陈立锐;刘恒信 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种使遮罩曝光于极紫外光的方法以及极紫外光微影系统，微影系统能够阻止诸如锡碎屑的污染物进入扫描器中。根据本揭露内容的各种实施例的微影系统包括一处理器、一极紫外光源、一扫描器及一中空连接部件。光源包括用于产生一液滴的一液滴产生器、用于将极紫外光反射至一中间焦点中的一集光器及用于产生预脉冲光及主脉冲光的一光产生器。液滴回应于液滴由预脉冲光及主脉冲光照明而产生极紫外光。扫描器包括一晶圆载台。中空连接部件包括与一排气泵流体连通的一入口。中空连接部件提供中间焦点安置所在的一中空空间。中空连接部件安置于极紫外光源与扫描器之间。 | ||
| 搜索关键词： | 使遮罩 曝光 紫外光 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210864126.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
