[发明专利]空白掩模用基板、其清洗方法及包括其的空白掩模

摘要

本实施方式涉及一种空白掩模用基板的清洗方法，其包括：第一清洗步骤，通过向待清洗基板照射预处理光来制备已被光清洗的基板，以及第二清洗步骤，通过向已被光清洗的所述基板喷射第一清洗溶液并照射后处理光来制备空白掩模用基板；所述预处理光是具有50nm以上且300nm以下的波长的光，所述后处理光是具有50nm以上且450nm以下的波长的光。所述空白掩模用基板的清洗方法能够有效地去除残留在基板表面而引起雾度的离子等。