[发明专利]光刻设备在审
| 申请号： | 202210996206.9 | 申请日： | 2018-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN115167082A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;M·J·沃奥尔戴尔冬克;M·W·J·E·威吉克曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种光刻设备，该设备包括：投影系统(PS；200)，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束(B)投影到衬底(W)上；所述投影系统包括多个光学元件(200.1、200.2)；传感器框架(220)；第一位置测量系统(240)，所述第一位置测量系统被配置为测量所述多个光学元件相对于所述传感器框架的位置；其中所述传感器框架包括：‑N个子框架(220.1、220.2)，N是大于1的整数；‑耦合N个子框架的耦合系统(220.3)；和‑第二位置测量系统(250)，所述第二位置测量系统被配置为确定所述N个子框架的相对位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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