[发明专利]有源矩阵基板及其制造方法在审
申请号: | 202211024990.3 | 申请日: | 2022-08-25 |
公开(公告)号: | CN115734672A | 公开(公告)日: | 2023-03-03 |
发明(设计)人: | 原健吾;大东彻;菊池哲郎;铃木正彦;西宫节治;高畑仁志 | 申请(专利权)人: | 夏普显示科技株式会社 |
主分类号: | H10K59/123 | 分类号: | H10K59/123;H01L27/12 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝;刘宁军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种有源矩阵基板,具备第1TFT和第2TFT,第1TFT具有:第1氧化物半导体层,其包含第1沟道区域;第1栅极电极,其配置在第1氧化物半导体层的基板侧;沟道保护层,其配置在第1氧化物半导体层的与基板相反的一侧,覆盖第1沟道区域;以及比沟道保护层靠上层的第1源极电极和第1漏极电极,第2TFT具有:第2氧化物半导体层;第2栅极电极,其配置在第2氧化物半导体层的与基板相反的一侧;以及第2源极电极和第2漏极电极,其配置在覆盖第2栅极电极的层间绝缘层上,第1氧化物半导体层和第2氧化物半导体层是由相同的层叠氧化物半导体膜形成的,第1TFT的沟道保护层与第2TFT的栅极绝缘层是由相同的绝缘膜形成的。 | ||
搜索关键词: | 有源 矩阵 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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