[发明专利]适应性强的X射线分析装置在审
| 申请号： | 202211053916.4 | 申请日： | 2022-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN115728329A | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | D·贝克尔斯;亚历山大·哈尔陈科;米伦·加特什基 | 申请（专利权）人： | 马尔文帕纳科公司 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20;G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 王红英;杨明钊 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及适应性强的X射线分析装置。X射线分析装置使用户能够执行多个X射线分析应用，以分析样品。该装置包括用于用X射线照射样品的X射线源，X射线源包括固体阳极和用于发射电子束的阴极。该装置还包括控制器和用于将电子束聚焦到阳极上的聚焦装置。控制器被配置为接收X射线分析应用信息，并基于X射线分析应用信息来控制X射线分析装置选择性地在第一X射线分析模式或第二X射线分析模式下操作。在第一X射线分析模式下，X射线源以第一操作功率操作，并且具有小于100μm的有效焦斑大小。在第二X射线分析模式下，X射线源以高于第一操作功率的第二操作功率操作，并且有效焦斑的面积大于在第一X射线分析模式下的有效焦斑的面积。 | ||
| 搜索关键词： | 适应性 射线 分析 装置 | ||
【主权项】：
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