[发明专利]一种提高光刻精度的方法及装置在审

专利信息
申请号: 202211069218.3 申请日: 2022-09-02
公开(公告)号: CN115343917A 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 丁伟;土克旭;金利剑 申请(专利权)人: 浙江水晶光电科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 程晓
地址: 318000 浙江省台州市椒*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请提供一种提高光刻精度的方法及装置,涉及光刻技术领域,通过引入激光切割工艺,利用激光切割工艺的高精度特性实现标准片上标准图形的制作,然后通过标准片上标准图形与光刻掩膜上的光刻图形套刻对准的方式,快速完成产品基片正确放置位置(生产位置)的标定,由此,能够有效降低标定过程中的标定次数和标定时间,继而方便在实际生产时,通过将产品基片放置到标定的生产位置,使得产品基片与光刻掩膜实现高精度的对准,进而提高光刻精度。
搜索关键词: 一种 提高 光刻 精度 方法 装置
【主权项】:
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