[发明专利]光掩模版的生产管理系统、供应链管理方法以及电子设备在审

专利信息
申请号: 202211072089.3 申请日: 2022-09-01
公开(公告)号: CN115421455A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 季明华;凡伟 申请(专利权)人: 上海传芯半导体有限公司
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;G06Q50/04;G06F16/25;G06F16/23
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 罗泳文
地址: 201306 上海市浦东新区中*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种光掩模版的生产管理系统、供应链管理方法以及电子设备,光掩模版的生产管理系统包括:进料管理单元,将石英衬底参数信息与衬底标准值进行对比,得到第一检测结果;掩模基版管理单元,包括与各层薄膜一一对应的薄膜检测模块,薄膜检测模块用于获得薄膜参数信息,并将薄膜参数信息与薄膜标准参数值进行对比,得到第二检测结果;光掩模版管理单元,用于获得刻蚀工艺参数,并将刻蚀工艺参数与刻蚀工艺标准值进行对比,得到第三检测结果;决策单元,根据第一检测结果、第二检测结果以及第三检测结果决定是否停机检修。本发明的生产管理系统、管理方法以及电子设备,具有较高的可靠性和稳定性,能够满足光掩模版的生产需求。
搜索关键词: 模版 生产管理 系统 供应 管理 方法 以及 电子设备
【主权项】:
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