[发明专利]光掩模版的生产管理系统、供应链管理方法以及电子设备在审
申请号: | 202211072089.3 | 申请日: | 2022-09-01 |
公开(公告)号: | CN115421455A | 公开(公告)日: | 2022-12-02 |
发明(设计)人: | 季明华;凡伟 | 申请(专利权)人: | 上海传芯半导体有限公司 |
主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418;G06Q50/04;G06F16/25;G06F16/23 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 罗泳文 |
地址: | 201306 上海市浦东新区中*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种光掩模版的生产管理系统、供应链管理方法以及电子设备,光掩模版的生产管理系统包括:进料管理单元,将石英衬底参数信息与衬底标准值进行对比,得到第一检测结果;掩模基版管理单元,包括与各层薄膜一一对应的薄膜检测模块,薄膜检测模块用于获得薄膜参数信息,并将薄膜参数信息与薄膜标准参数值进行对比,得到第二检测结果;光掩模版管理单元,用于获得刻蚀工艺参数,并将刻蚀工艺参数与刻蚀工艺标准值进行对比,得到第三检测结果;决策单元,根据第一检测结果、第二检测结果以及第三检测结果决定是否停机检修。本发明的生产管理系统、管理方法以及电子设备,具有较高的可靠性和稳定性,能够满足光掩模版的生产需求。 | ||
搜索关键词: | 模版 生产管理 系统 供应 管理 方法 以及 电子设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海传芯半导体有限公司,未经上海传芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211072089.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。