[发明专利]一种CMP抛光液过滤器在审
| 申请号： | 202211128703.3 | 申请日： | 2022-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN115414725A | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 杨海军;叶竹之;林猛;朱欣翼;王军涛 | 申请（专利权）人： | 成都泰美克晶体技术有限公司 |
| 主分类号： | B01D33/04 | 分类号： | B01D33/04;B01D33/80;B24B57/02 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 邓芸 |
| 地址： | 610000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CMP抛光液过滤器，属于过滤器技术领域，以解决现有的圆柱形深层滤芯在使用一定的时间后内部的过滤网孔会被堵塞，从而影响过滤的效率的问题，包括底座，所述底座的表面中间位置处安装有隔板，所述隔板前侧的中间位置处安装有过滤箱，所述过滤箱一侧的隔板侧面安装有滤纸放置架，把需要过滤的CMP抛光液加入到过滤箱的内部，然后使得滤纸收卷端进行转动，由此使得滤纸放置架上的滤纸从过滤箱的内部穿过然后到达滤纸收卷端的位置处，由此使得过滤箱内部用作于过滤的滤纸始终是干净的状态，通过类传送带方式实时更新滤纸，达到最佳过滤效果，同时保持过滤的最佳状态，有效改善过滤的精度以及过滤的流速。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cmp 抛光 过滤器 | ||
【主权项】：
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