[发明专利]基于导电网格转印的电磁屏蔽光学窗及其制备方法在审
| 申请号： | 202211160407.1 | 申请日： | 2022-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN115413218A | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 陈小连;苏文明;张硕;聂书红;徐文亚;裴芳芳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 苏州三英知识产权代理有限公司 32412 | 代理人： | 黄晨 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种基于导电网格转印的电磁屏蔽光学窗及其制备方法，制备方法包括提供一基板，所述基板上设有凹槽网格结构；在所述凹槽网格结构内形成导电网格；将所述导电网格由所述基板上转移至中转膜上；将所述导电网格由所述中转膜上转移至光学窗表面固定，得到电磁屏蔽光学窗。本申请制备方法采用先制备导电网格，再将导电网格转移至光学窗衬底上粘合的方式，制备电磁屏蔽光学窗，有效避免了在光学窗上刻蚀、蒸镀等工艺，并且能够大面积制作，有效降低制作成本，简化工艺，同时光学窗衬底的材料不受限制，兼容性强，应用范围广，可满足不同应用场景的透明电磁屏蔽需求。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 导电 网格 电磁 屏蔽 光学 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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