[发明专利]一种掩膜版、曝光设备和曝光方法

摘要

本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的第一掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在第一掩膜子版的一侧，且能够相对第一掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的对位信号，控制第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中透光区分别对应不同的子掩膜图形组。本申请实施例可以将多种掩膜版图形集成在一张掩膜版中，减少掩膜版使用数量，降低生产成本，同时减少生产时掩膜版的移动风险及其造成的产品工艺不良。