[发明专利]一种龙门双面光刻系统的曝光方法有效

专利信息
申请号: 202211207437.3 申请日: 2022-09-30
公开(公告)号: CN115524942B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 王华;陈志特;朱敏;甘泉;黄海浩 申请(专利权)人: 广东科视光学技术股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/00;H05K3/06
代理公司: 深圳市华盛智荟知识产权代理事务所(普通合伙) 44604 代理人: 胡国英
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种龙门双面光刻系统的曝光方法,包括以下步骤:组装好PCB组件,并将PCB组件放置到移动龙门式左平台;将龙门式左平台移动到CCD组件的位置处,通过上下两侧的对位相机对PCB板上下两面同时进行定位;将龙门式左平台移动到光刻组件的位置处,通过上下两侧的光刻镜头对PCB板上下两面同时进行光刻;光刻好的龙门式左平台上的PCB组件回复到原位置,待光刻的龙门式右平台上的PCB组件重复步骤1‑3进行光刻,本发明的光刻系统,只需要在设备的一侧增加一个工位即可,便可对两个平台进行交叉的光刻工作;以及分别设置上下两个的光刻组件和CCD组件,从而可以对PCB板同时进行两面光刻工作。
搜索关键词: 一种 龙门 双面 光刻 系统 曝光 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东科视光学技术股份有限公司,未经广东科视光学技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211207437.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top