[发明专利]一种氧化铈纳米颗粒的合成方法及其应用于浅沟槽隔离的化学机械抛光的组合物在审
| 申请号： | 202211277840.3 | 申请日： | 2022-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN116654971A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 巩强;雒玉欣;许宁;张建 | 申请（专利权）人： | 意芯微电子材料（南通）有限公司 |
| 主分类号： | C01F17/235 | 分类号： | C01F17/235;C01F17/10;C09G1/02;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南通鼎点知识产权代理事务所(普通合伙) 32442 | 代理人： | 葛永新 |
| 地址： | 226000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种氧化铈纳米颗粒的合成方法及其应用于浅沟槽隔离(STI)的化学机械抛光(CMP)的组合物，所述组合物包括：氧化铈纳米颗粒、有机添加剂及超纯水。本发明公开的CeO |
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| 搜索关键词： | 一种 氧化 纳米 颗粒 合成 方法 及其 应用于 沟槽 隔离 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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