[发明专利]掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202211290292.8 申请日: 2022-10-20
公开(公告)号: CN115619744A 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 曾弘岳;廖至钦;周铭章;林富良 申请(专利权)人: 友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/11;G06T7/90
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 孟超;梁挥
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质。检测方法包括获取至少一掩模板图层;将所述至少一掩模板图层划分为一第一区域以及一第二区域,其中所述第一区域为非检测区,所述第二区域为检测区,且所述第二区域为异形区域;将所述第二区域划分为多个呈阵列排布的区块;将所述区块中的一第一区块与至少一第二区块进行比对,得到一比对结果;根据所述比对结果判断所述掩模板图层的缺陷类型;其中,所述第一区域具有一第一背景色,所述第二区域具有一第二背景色,所述第一背景色与所述第二背景色不同。
搜索关键词: 模板 检测 方法 装置 设备 存储 介质
【主权项】:
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