[发明专利]一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备在审
申请号: | 202211409005.0 | 申请日: | 2022-11-11 |
公开(公告)号: | CN115786870A | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 韦新松;洪布双;高昂;张勇 | 申请(专利权)人: | 江苏中清先进电池制造有限公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/455 |
代理公司: | 安徽思尔六知识产权代理事务所(普通合伙) 34244 | 代理人: | 童慧慧 |
地址: | 221400 江苏省徐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明及镀膜设备技术领域,公开了一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备,包括滑轨,滑轨上开设有两条滑槽,滑轨的上方依次设置有清理机构、制绒机构、酸洗机构、调节机构以及镀膜机,滑轨上还设置有两组夹持机构,两夹持机构与上各机构相互配合,制绒机构用于物料表面制绒,酸洗机构用于制绒后物料表面的杂质的清理,调节机构用于调节物料的形态;本发明通过设置两组夹持组件与上方的各个机构相互配合,可自动完成对物料表面清理、制绒、酸洗、以及镀膜等工艺,且通过设置调节机构与夹持组件的配合,对物料表面进行深度清理,进一步提升了表面的酸洗效果,同时提升表面的镀膜效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 ald 工艺 氧化铝 氮化 二合一 机台 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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