[发明专利]一种双面压电层结构及其加工工艺在审
| 申请号： | 202211488950.4 | 申请日： | 2022-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN116131804A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 慈伟杰;储清清 | 申请（专利权）人： | 合肥领航微系统集成有限公司 |
| 主分类号： | H03H9/15 | 分类号： | H03H9/15;H03H9/13;H03H9/02;H03H3/02 |
| 代理公司： | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 | 代理人： | 丁瑞瑞 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市高新区孔雀台路*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双面压电层结构及其加工工艺，所述双面压电层结构包括：结构层；第一振膜，设置于所述结构层上，且所述第一振膜位于所述结构层的一侧；具有第三金属层和第四金属层的第二振膜，所述第二振膜设置于所述结构层上，且所述第二振膜位于所述结构层远离所述第一振膜的一侧；第一沟槽，设置于所述结构层上，且所述第一沟槽由所述结构层的一侧贯穿至所述第三金属层的上表面；以及第二沟槽，设置于所述结构层上，且所述第二沟槽由所述结构层的一侧贯穿至所述第四金属层的上表面。本发明提供一种双面压电层结构及其加工工艺，该双面压电层结构解决了与基底键合的一面的压电层结构的引线问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 压电 结构 及其 加工 工艺 | ||
【主权项】：
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