[发明专利]光刻胶剥离液在审
| 申请号： | 202211601957.2 | 申请日： | 2022-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN115981119A | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 李恩庆 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨瑞 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种光刻胶剥离液，该光刻胶剥离液包括膨胀剂、渗透剂、溶解剂、pH抑制剂以及腐蚀抑制剂，且膨胀剂的质量百分比含量为30％‑60％，溶解剂的质量百分比含量为40％‑60％，渗透剂的质量百分比含量为0.5％‑8％，pH抑制剂的质量百分比含量为0.01％‑2％，腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.001％‑2％。光刻胶剥离液在剥离过程中，其剥离效果较好，同时，光刻胶剥离液还可多次再生重复利用，从而有效的提高了光刻胶剥离液的再生良率，并降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 | ||
【主权项】：
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