[发明专利]金属氧化物半导体场效应晶体管占空比控制器在审

专利信息
申请号: 202211627980.9 申请日: 2022-12-16
公开(公告)号: CN116266751A 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 张栋映;S·E·菲恩 申请(专利权)人: 瑞萨电子美国有限公司
主分类号: H03K3/017 分类号: H03K3/017;G11C11/407
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 姚宗妮
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及金属氧化物半导体场效应晶体管占空比控制器。在实施例中,公开了一种包括占空比控制器的装置。占空比控制器包括调谐电路,该调谐电路包括第一场效应晶体管。第一场效应晶体管被配置为实施为电容器。占空比控制器还包括边沿延迟电路。边沿延迟电路包括第二场效应晶体管,该第二场效应晶体管在被占空比控制器的输入时钟信号激活时被配置为将电压源连接到占空比控制器的输出时钟信号。边沿延迟电路还包括第三场效应晶体管,该第三场效应晶体管在被激活时被配置为将调谐电路的所述第一场效应晶体管连接到输出时钟信号。
搜索关键词: 金属 氧化物 半导体 场效应 晶体管 控制器
【主权项】:
暂无信息
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