[发明专利]阵列基板及制备方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 202211652814.4 申请日: 2022-12-21
公开(公告)号: CN115831980A 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 李珊;肖军城;赵斌;余明爵;李兰兰;王强 申请(专利权)人: 广州华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨瑞
地址: 510700 广东省广州市黄埔区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明实施例提供一种阵列基板、阵列基板的制备方法及显示面板。阵列基板包括有源层、栅极以及层间绝缘层。层间绝缘层内的氢元素的含量大于或等于有源层内的氢元素的含量,层间绝缘层内的氢元素可向有源层中转移。且有源层的方块电阻值小于1000ohm/square。由于层间绝缘层内的氢元素可直接向有源层中扩散转移,进而使得有源层中的氢元素含量增加以达到导体化目的,从而省去对有源层离子掺杂的工艺,简化了阵列基板的制备工艺,并提高阵列基板的综合性能。
搜索关键词: 阵列 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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