[实用新型]一种新型真空镀膜工艺室有效
| 申请号： | 202220146220.5 | 申请日： | 2022-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN217026058U | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 张俊峰;赵子东;许春立;魏庆瑄 | 申请（专利权）人： | 上海子创镀膜技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/50 |
| 代理公司： | 上海尊肃专利代理事务所(普通合伙) 31454 | 代理人： | 李珍珍 |
| 地址： | 201506 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种新型真空镀膜工艺室，该镀膜工艺室为单元式结构，镀膜工艺室包括由隔板隔开的多个镀膜单元室，每个镀膜单元室结构一致，可根据工艺需求灵活调整；镀膜工艺室由相互首尾相连的两个端板、两个端板组成框架，框架的内腔等间隔设置有多个隔板，隔板将框架内腔分割成多个结构一致的镀膜单元室；所述镀膜单元室的底部设置有底板，一侧侧板上安装有用于连接真空计的真空法兰，另一个侧板的顶端设置有沿口板，镀膜单元室上设置有溅射阴极盖板和分子泵盖板。本方案在镀膜工艺室上增加了一个门阀室单元，大大缩短了设备维护及开机时间；双道密封结构的设计极大的提高了镀膜工艺室工艺压力的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 真空镀膜 工艺 | ||
【主权项】：
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