[实用新型]一种反应室及化学气相沉积设备

摘要

本申请提供了一种反应室及化学气相沉积设备，涉及半导体生产设备领域。所述反应室包括顶盖、底座及固定挡板，所述底座上设有凹槽，所述固定挡板上设有对应的凸块，所述凹槽与所述凸块配合，使所述固定挡板与所述底座固定连接，所述固定挡板用于遮挡所述底座的表面，所述凸块的长度和宽度均大于所述凸块插入所述凹槽的深度。所述化学气相沉积设备包括上述反应室。本申请的所述凸块在插入所述凹槽内或从所述凹槽内取出时，所述凸块不易折断；所述凸块受到热胀冷缩时不易断裂，避免所述挡板的意外滑动；所述凸块插入所述凹槽时容易对准，方便所述固定挡板安装于所述反应室内。