[实用新型]一种旋转晶振转盘侦测装置

摘要

本实用新型公开了一种旋转晶振转盘侦测装置，包括真空腔体、晶振转盘、坩埚Ⅰ和坩埚Ⅱ，晶振转盘、坩埚Ⅰ和坩埚Ⅱ均位于真空腔体中，晶振转盘的侧面上设有侧面晶振片用于侦测坩埚Ⅰ的蒸发速率，晶振转盘的底面上设有平面晶振片，用于侦察坩埚Ⅱ的蒸发速率，侧面晶振片与平面晶振片垂直，当真空腔体内设置多个晶振转盘时，单个坩埚可对应两个晶振转盘，使单个坩埚对应的侦测晶振片的数量增多。通过改变晶振片的排布方式，提高单个坩埚对应的侦测晶振片的数量，解决现有技术中，由于单个坩埚对应侦测的晶振片数量少，影响坩埚内材料不能充分利用，增加了停机保养和加装晶振片次数的问题。