[实用新型]一种多腔微波等离子体化学气相沉积装置有效
申请号: | 202221137774.5 | 申请日: | 2022-05-12 |
公开(公告)号: | CN217324293U | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 张坤锋;张粉红;陈永超 | 申请(专利权)人: | 化合积电(厦门)半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/54;C23C16/27;C23C16/458;C23C16/455 |
代理公司: | 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 | 代理人: | 黄巧香 |
地址: | 361000 福建省厦门市集*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种多腔微波等离子体化学气相沉积装置,包括反应腔,反应腔的下端面设置有出料口;闭合盖,上下移动安装在反应腔的出料口下方;分隔机构,包含若干按等角度环绕设置在定位件四周的隔离件、隔离件向外分别固接到反应腔的内侧壁,向内分别通过相应的衔接件连通定位件;基底座,安装在所述闭合盖的上部并套装于定位件内部;若干基片台,分别设置在相应的隔离件内、并通过相应的连杆固定安装在基底座的上端部;若干密封机构,闭合盖上升关闭所述反应腔时,通过密封机构分隔隔离件和定位件。本实用新型为结构紧凑的多腔室沉积,便于统一操作,降低生产成本,提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 化学 沉积 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的