[实用新型]改善光刻胶涂布均匀性的装置有效
| 申请号： | 202221231157.1 | 申请日： | 2022-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN217386134U | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 丁凯;黄寓洋 | 申请（专利权）人： | 苏州苏纳光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 赵世发 |
| 地址： | 215124 江苏省苏州市苏州工业*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种改善光刻胶涂布均匀性的装置，包括底盘、遮罩片以及顶出机构，遮罩片活动设置在底盘上，且在遮罩片和底盘之间形成用于容置晶圆片的收容空间，所述顶出机构包括启动杆、连杆以及顶出杆，当启动杆沿第一方向运动时，顶出杆能够沿第二方向运动，顶出杆能够驱使遮罩片沿第二方向运动而与底盘分离。本实用新型实施例提供的一种改善光刻胶涂布均匀性的装置，能够改善晶圆片上光刻胶均匀性，从而提升后续制作半导体芯片的工艺良率，且通过设有的顶出机构能够更佳便捷的拆卸和/或拿取遮罩片，从而提升工作效率，便于维护以及使用。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 光刻 胶涂布 均匀 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州苏纳光电有限公司，未经苏州苏纳光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202221231157.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种轨道施工运输小车
- 下一篇：一种一体化地下水分层原位采集装置
