[实用新型]一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构有效
| 申请号： | 202221303099.9 | 申请日： | 2022-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN217459575U | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 董清世;陈龙;吉昌强;徐阳 | 申请（专利权）人： | 信义节能玻璃（四川）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 李志起 |
| 地址： | 618000 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及真空镀膜磁控溅射设备领域，具体来说是一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，包括底板本体，所述底板本体上设有多个存储凹槽；相邻所述存储凹槽间隔平行分布；本实用新型公开了一种真空镀膜磁控溅射用的挡底板结构，本实用新型通过在挡板本体上设置存储凹槽，增加了挡底板的储渣能力，同时本实用新型通过存储凹槽的设置，使得挡底板端面为具有高低落差的平面，使得溅射物更难以附着在挡底板表面，继而方便了后续的清理操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 磁控溅射 底板 结构 | ||
【主权项】：
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