[实用新型]一种CVD设备中Loadlock传动机构有效
申请号: | 202221441855.4 | 申请日: | 2022-06-10 |
公开(公告)号: | CN217809658U | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 禅明;吴金马;黄善发;臧宇;王金 | 申请(专利权)人: | 盛吉盛半导体科技(无锡)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/52 |
代理公司: | 池州优佐知识产权代理事务所(普通合伙) 34198 | 代理人: | 刘尔才 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种CVD设备中Loadlock传动机构,涉及Loadlock传动以及控制技术领域,针对原有的丝杆和导杆传动机构在使用时,对于其采用伺服编码器的控制方式,系统传动刚度弱,存在累积误差的问题,现提出如下方案,其包括Loadlock腔体,所述Loadlock腔体的下方设置有Loadlock传动机构。该装置采用丝杆和直线导轨为一体的模组形式,整体的传动刚性更好,模块化的部件安装更方便,装配精度更易保证,相比于原有机构可靠性更高,后期的保养维护更方便;通过绝对值式的直线编码器与伺服电机组成闭环控制,可以准确检测到casstte中wafer的实际位置,控制精度更高。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 设备 loadlock 传动 机构 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的