[实用新型]一种原子层沉积设备用自动密封装置

摘要

本实用新型涉及一种原子层沉积设备用自动密封装置，包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。本实用新型的优点是：实现真空室分别与大气及镀膜室的自动密封隔离、自动对位，有效地减少漏膜的可能，提高产品质量，无需频繁维护，降低成本，将可能存在的对人体的危害降到最低。