[实用新型]双腔原子层沉积进气结构有效

专利信息
申请号: 202221577803.X 申请日: 2022-06-22
公开(公告)号: CN217781273U 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 陈明哲 申请(专利权)人: 无锡科特维尔电子技术有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 代理人: 崔婕
地址: 214000 江苏省无锡市滨*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种双腔原子层沉积进气结构,包括嵌套设置的外腔室和内腔室,所述外腔室底部设有加热器、载物台,所述内腔室位于载物台上,内腔室的两端分别设有抽气管、前驱体扩散器,所述前驱体扩散器的端部安装有匀气组件,匀气组件包括若干个轴向叠加的匀气片。本实用新型结构紧凑、合理,操作方便,外腔室带有加热结构,内部还设有载物台,内腔室具有独立的抽气结构,内腔室的前端带有锥形的前驱体扩散器,前驱体扩散器的前端有匀气组件,能够在气体注入前驱体扩散器的同时,增强前驱体源的扩散性。
搜索关键词: 原子 沉积 结构
【主权项】:
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