[实用新型]双腔原子层沉积进气结构有效
申请号: | 202221577803.X | 申请日: | 2022-06-22 |
公开(公告)号: | CN217781273U | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 陈明哲 | 申请(专利权)人: | 无锡科特维尔电子技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 崔婕 |
地址: | 214000 江苏省无锡市滨*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种双腔原子层沉积进气结构,包括嵌套设置的外腔室和内腔室,所述外腔室底部设有加热器、载物台,所述内腔室位于载物台上,内腔室的两端分别设有抽气管、前驱体扩散器,所述前驱体扩散器的端部安装有匀气组件,匀气组件包括若干个轴向叠加的匀气片。本实用新型结构紧凑、合理,操作方便,外腔室带有加热结构,内部还设有载物台,内腔室具有独立的抽气结构,内腔室的前端带有锥形的前驱体扩散器,前驱体扩散器的前端有匀气组件,能够在气体注入前驱体扩散器的同时,增强前驱体源的扩散性。 | ||
搜索关键词: | 原子 沉积 结构 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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