[实用新型]光罩有效
申请号: | 202221695712.6 | 申请日: | 2022-06-30 |
公开(公告)号: | CN217879973U | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 陈都 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 彭宇 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型实施例公开了一种光罩;该光罩包括光罩主体、及位于该光罩主体的一侧的准直遮光层,该光罩主体包括至少一第一开口,该准直遮光层包括至少一准直遮光单元,该准直遮光单元包括一准直孔,其中,一该准直遮光单元围绕一该第一开口设置,在垂直于该光罩主体的方向上,一该第一开口与一该准直孔重合设置;本实用新型通过在光罩主体的第一开口周围设置准直遮光单元,准直遮光单元的准直孔与第一开口对应重合,利用准直遮光单元对倾斜光线的遮挡,提高光线的准直性,提高了曝光精度,增强了图案化的解析力,提高了制作精度。 | ||
搜索关键词: | 光罩 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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