[实用新型]单面抛光设备有效
| 申请号： | 202221995244.4 | 申请日： | 2022-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN218194446U | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 邵晓东 | 申请（专利权）人： | 徐州鑫晶半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B55/00;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种单面抛光设备，包括：机体；旋转台，旋转台具有清洗池，清洗池内设有用于带动陶瓷块转动的旋转轴，清洗池的一侧设有喷液元件和刷洗元件；加热模块，加热模块位于清洗池的背离喷液元件和刷洗元件的一侧；机械手臂，机械手臂的一端可转动地设置于机体，机械手臂的另一端设有适于夹持陶瓷块的夹爪，机械手臂用于在旋转台和加热模块之间移载陶瓷块；挡液板，挡液板设于清洗池和加热模块之间，挡液板用于防止清洗池内的液体溅入加热模块内。根据本实用新型的单面抛光设备，通过设置挡液板，可防止清洗池内的液体溅入加热模块，有利于保证加热模块工作的可靠性，从而提高对晶圆的抛光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 单面 抛光 设备 | ||
【主权项】：
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