[实用新型]一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件有效
| 申请号： | 202222286156.3 | 申请日： | 2022-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN218146911U | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 陈义武;钟轶强;王江;付天佐;程元芬;孟树文;田振刚;刘金生 | 申请（专利权）人： | 中核四0四有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京八月瓜知识产权代理有限公司 11543 | 代理人： | 张志良 |
| 地址： | 732850 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及磁控溅射装备技术领域，尤其是涉及一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，配合圆柱形真空室使用，包括支撑结构，所述支撑结构的外侧设有柔性薄膜，所述支撑结构位于真空室内部且所述柔性薄膜固定在所述真空室内壁及所述支撑结构之间。本实用新型的捕集组件，能够实现放射性靶材磁控溅射镀膜过程中，真空室内壁的屏蔽，降低放射性靶材物质对真空室的污染，同时收集了沉积在真空室的放射性靶材物质，减少了放射性固体废物量，降低了放射性靶材物质回收的难度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 磁控溅射 放射性 粒子 组件 | ||
【主权项】：
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