[实用新型]超音波低温水域下蜡装置

摘要

本申请公开超音波低温水域下蜡装置，属于晶片处理设备技术领域，包括底座、承载槽、加热元件、晃动机构、承载盘和超音波换能器；承载槽用于盛装去离子水，位于所述底座的顶部，所述承载槽的底壁设置有限位通孔，所述承载槽内设置有温度传感器；晃动机构包括晃动主体和动力机构，其中晃动主体位于承载槽内，动力机构以能够穿过限位通孔驱动晃动主体晃动的方式设置在底座内；承载盘浸没在去离子水中，并设置在晃动主体的顶部，通过柔性密封套连接承载槽的底壁；超音波换能器具有多个，均匀嵌设在底座的顶部，并正对所述承载槽。该低温水域下蜡装置能够避免高温对人员造成的潜在危险，减少slurry的黏附量，方便后续清洗工艺的进行。