[实用新型]一种高压离子轰击的真空镀膜机有效
| 申请号： | 202222410626.2 | 申请日： | 2022-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN218059187U | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 邓额 | 申请（专利权）人： | 深圳市仲晶科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/54 |
| 代理公司： | 深圳市育科知识产权代理有限公司 44509 | 代理人： | 李丽洪 |
| 地址： | 518107 广东省深圳市光明区新湖*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种高压离子轰击的真空镀膜机，包括镀膜机主体，镀膜机主体的下端固定连接有四个底脚，且四个底脚呈左右对称分布，镀膜机主体的上内壁与下内壁之间固定连接有两个支柱，两个支柱的对立端均开设有滑槽，两个滑槽内均滑动安装有控温组件，镀膜机主体的下内壁前端固定连接有电机固定台与轴固定架，电机固定台的上端固定连接有上料组件，镀膜机主体的下内壁中部固定连接有镀膜装置，镀膜机主体的后内壁固定连接有定位板，镀膜机主体的前端可拆卸连接有外壳，本实用新型通过设置上料组件，达到自动化上料、省时省力的目的；本实用新型通过设置控温组件，达到主动控温、保证镀膜质量的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高压 离子 轰击 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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