[实用新型]一种蒸发器皿以及真空镀膜系统有效

专利信息
申请号: 202222534943.5 申请日: 2022-09-23
公开(公告)号: CN218089763U 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 王超;李永强;李东亮;汪振南;侯建洋;孙欣森;李永伟 申请(专利权)人: 安迈特科技(北京)有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 吴瑛
地址: 102402 北京市房*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及真空蒸镀技术领域,公开了一种蒸发器皿以及真空镀膜系统。所述蒸发器皿包括具有底壁的第一蒸发池,所述第一蒸发池内设置有池壁,所述池壁从所述底壁向上延伸设置,所述池壁首尾相接以形成第二蒸发池,所述第二蒸发池用于容纳金属蒸发液,所述第一蒸发池用于容纳由所述第二蒸发池溢出的所述金属蒸发液。本实用新型的蒸发器皿通过在第一蒸发池内设置池壁,并且该池壁首尾相接形成第二蒸发池,由于第二蒸发池的面积小于第一蒸发池的面积,金属蒸发液更容易在第二蒸发池内铺满,从而能够提高蒸发器皿的润湿性,并且第一蒸发池和第二蒸发池处于同一温度场下,即使金属蒸发液溢出第二蒸发池外,也不会因温场变化造成金属蒸发液的飞溅。
搜索关键词: 一种 蒸发 器皿 以及 真空镀膜 系统
【主权项】:
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