[实用新型]一种用于真空溅射装置的水冷平台机构有效
| 申请号： | 202222690755.1 | 申请日： | 2022-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN218321598U | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 劳伟民;孟子顺 | 申请（专利权）人： | 爱发科真空技术（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;F16J15/16;F16N21/00 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 杨慧红 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，涉及真空溅射装置的技术领域，包括底板和转动连接在底板上的旋转轴，旋转轴沿竖直方向设置，旋转轴远离底板的一端设置有旋转平台，旋转平台竖直方向的下方设置有加热盘，旋转轴包括内部中空的外圈外套、插设在外圈外套内的内圈外套、插设在内圈外套内的中心轴，外圈外套、内圈外套、中心轴为同轴设置，外圈外套与内密封套之间间隔形成外回水路，内密封套与中心轴之间间隔形成内进水路，旋转平台内设置有连通外回水路和内进水路的循环水路；旋转轴接近底板的一端设置有用于向旋转轴内进水和出水的水冷导入机构。本实用新型具有快速降温的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 溅射 装置 水冷 平台 机构 | ||
【主权项】：
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