[实用新型]一种水冷等离子化学气相沉积设备有效
申请号: | 202222742645.5 | 申请日: | 2022-10-18 |
公开(公告)号: | CN218262743U | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | 邱永强;刘永宁;赵俊芳 | 申请(专利权)人: | 山西方维晟智能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/27;C23C16/44;H01J37/32 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 030024 山西省太原市万柏*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本实用新型提供一种水冷等离子化学气相沉积设备,涉及化学气相沉积技术领域。该水冷等离子化学气相沉积设备包括微波发生装置,所述微波发生装置一侧固定连接有用于调整微波反射的三销钉调谐器,所述三销钉调谐器一侧固定连接有模式转换器,所述模式转换器内部滑动连接有天线水管,所述天线水管外侧固定连接有胀紧套。该水冷等离子化学气相沉积设备,石英玻璃离生产区域较远,避免刻蚀造成一系列的危害,天线由特有的胀紧机构保证其稳定性,能更好地保证腔体的密封状态和稳定的生产状态,密封件原理高温区域且设有冷却水降温,能极大提升其寿命,仅需定期维护时更换即可,避免由密封圈频繁损坏造成的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 水冷 等离子 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的