[实用新型]一种稳定气流场的抽气装置及LPCVD管式反应器

摘要

本实用新型涉及镀膜技术领域，具体涉及一种稳定气流场的抽气装置LPCVD管式反应器，抽气装置应用在LPCVD管式反应器上，LPCVD管式反应器内设有工艺区，抽气装置包括主抽气部和至少一个次抽气部；主抽气部位于工艺区的一端，至少一个次抽气部位于工艺区的另一端。本实用新型在工艺区的两端分别设置了主抽气部和次抽气部，二者都具有抽气能力，从而使得LPCVD管式反应器中的在远离主抽气部的一端的气体也能够被及时抽走，不会产生紊流而积累气体，从而避免工艺特气提前反应而聚合产生粉尘颗粒落到硅片上造成膜的表面粗糙，确保膜的致密性好，确保硅片上的膜的质量。