[实用新型]一种晶圆自动清洁装置有效

专利信息
申请号: 202222970938.9 申请日: 2022-11-08
公开(公告)号: CN219350152U 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 梅雪军;钱伟 申请(专利权)人: 海太半导体(无锡)有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B08B7/00
代理公司: 无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262 代理人: 吴红霞
地址: 214000 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种晶圆自动清洁装置,包括风箱外侧箱体上设置有限位固定装置,通过限位固定装置将清洁装置安装在工作台上,风箱内竖直设置有一号挡板将风箱箱体分成前后容积不等的两个箱体分别是一号箱体与二号箱体,其中一号箱体内设置有离子风制造装置,二号箱体内设置有排风结构,清洁腔设置在风箱上方,清洁腔与风箱间水平设有二号挡板,进料口设置在清洁腔远离排风结构方向上;风导装置设置在清洁腔靠近离子风制造装置轴向的两端上。本实用新型采用离子风制造装置制造离子风在清洁腔内对晶圆表面覆盖可以有效的去除晶圆表面的因静电吸附在晶圆表面的如灰尘等细小的颗粒,提高激光加工产生质量与品控。
搜索关键词: 一种 自动 清洁 装置
【主权项】:
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