[发明专利]光刻掩膜板

摘要

本发明提供了一种光刻掩膜板。该光刻掩膜板包括掩膜板基体，该掩膜板基体具有第一表面，且第一表面中具有掩膜图形，该掩膜图形用于采用光刻工艺传递至晶圆上；光罩结构，该光罩结构设置于掩膜板基体的具有第一表面的一侧，与第一表面接触的至少部分光罩结构具有电导性，以使光罩结构和部分第一表面构成封闭区域，上述掩膜图形位于封闭区域中的第一表面中。从而使得在静电放电的情况下，静电能够沿着该光罩结构传输至远离掩膜图形的一侧，从而避免了静电对掩膜图形的损害。