[发明专利]半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置

摘要

本发明公开了半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置，包括储液箱、位于储液箱上方的冲洗箱、位于储液箱和冲洗箱的下方泄漏箱、位于冲洗箱内部的出液箱、分流管、球阀、夹具和位于泄漏箱内部的水泵、过滤器；储液箱与水泵的进口端相连通，水泵的出口端与过滤器的进口端相连通，过滤器的出口端与出液箱的进口端相连通，分流管的进口端与出液箱远离出液箱的进口端的一侧相连通，分流管的出口端固定设有球阀，夹具内部固定设有一个气体喷射器，夹具固定位于球阀的出口端，冲洗箱出口端与储液箱相连通。本发明具有安装方便、控制清洗水流速度、可多个气体喷射器同时清洗、能耗低、可针对气体喷射器的第一孔与第二孔进行冲刷的优点。