[发明专利]显示装置的制造方法在审
| 申请号： | 202310083077.9 | 申请日： | 2023-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN116507180A | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 三村寿文;小龟平章;石田有亲;福田加一 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本显示器 |
| 主分类号： | H10K71/00 | 分类号： | H10K71/00;H10K50/844 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示装置的制造方法。根据一个实施方式，在显示装置的制造方法中，准备在基板的上方形成有下电极、肋部和包含下部及上部的隔壁的处理基板，形成覆盖下电极的第1有机层、和与第1有机层分离并位于上部之上的第2有机层，形成位于第1有机层之上并与下部相接的第1上电极、和与第1上电极分离并位于第2有机层之上的第2上电极，形成位于第1上电极和第2上电极的上方并覆盖隔壁的封固层，形成覆盖封固层的一部分的抗蚀剂，以抗蚀剂为掩模进行各向异性干式蚀刻，减小从抗蚀剂露出的封固层的膜厚，以抗蚀剂为掩模，使用氟系气体与氧的混合气体进行各向同性干式蚀刻，将从抗蚀剂露出的封固层除去。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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