[发明专利]用于镀膜设备的破真空装置及镀膜设备在审
| 申请号： | 202310164161.3 | 申请日： | 2023-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN116463591A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 冯晓军;闫宁宁;李伟 | 申请（专利权）人： | 三一硅能（株洲）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 龚利波 |
| 地址： | 412000 湖南省株洲市石峰区铜塘*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及镀膜技术领域，提供一种用于镀膜设备的破真空装置及镀膜设备，包括与供气设备相连接的输气管路，输气管路用于向镀膜设备的第二腔室内输送气体；其中，输气管路至少包括第一管路节段，第一管路节段的进气端小于其出气端的截面面积，第一管路节段的进气端与供气设备相连接，出气端用于与第二腔室相连接。在进行破真空作业时，供气设备通过输气管路将气流输送至第二腔室内，气流在经过输气管路中的第一管路节段时，由于其进气端小于出气端的截面面积，则出气端截面变大使气流的流速降低，大幅降低了气流对第二腔室的冲击，解决了电池片易被吹偏、吹碎的缺陷，降低了电池片的破片率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 镀膜 设备 真空 装置 | ||
【主权项】：
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