[发明专利]一种光谱选择性低发射率的红外隐身涂层及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202310196455.4 | 申请日： | 2023-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN116430498A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 吴晓宏;李杨;卢松涛;秦伟;洪杨 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;C23C14/34;C23C14/08;C23C14/10;G02B1/18 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光谱选择性低发射率的红外隐身涂层及其制备方法和应用，属于功能薄膜材料及其制备技术领域。本发明解决现有红外隐身涂层存在耐温性差、阻碍辐射散热等技术问题。本申请提供的红外隐身涂层具有周期性多层膜结构，周期性多层膜结构由高折射率材料层和低折射率材料层组成，可实现在红外波段下选择性发射的效果。高折射率材料层和低折射率材料层均为红外波段的优选窗口材料，热匹配性较好，可以有降低涂层在红外波段的温度，残余热应力较小，且各层间具有优异的附着力，无互相渗透现象存在，膜层不易脱落。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 选择性 发射 红外 隐身 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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