[发明专利]半导体结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202310215733.6 申请日: 2023-03-02
公开(公告)号: CN116075152A 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 曹堪宇;肖德元;冯道欢 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H10B12/00 分类号: H10B12/00
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本公开实施例涉及半导体领域,提供一种半导体结构及其制造方法,结构包括:多个半导体柱,半导体柱沿第一方向和第二方向排列,且沿第三方向延伸,半导体柱在沿第三方向上包括依次排列的第一区、第二区和第三区;多条沿第四方向延伸的字线,字线与半导体柱的第二区连接,且在沿第四方向上,同一字线连接多个半导体柱;多条沿第五方向延伸的位线,位线与半导体柱的第一区连接,且在沿第五方向上,同一位线连接多个半导体柱;其中,在沿第四方向上半导体柱交替设置于字线的中心轴线的两侧,或者,在沿第五方向上半导体柱交替设置于位线的中心轴线的两侧,以改善半导体结构的性能。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
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