[发明专利]一种用于半导体厂房的洁净室在审
| 申请号： | 202310369655.5 | 申请日： | 2023-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN116379543A | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 王新河;王宁;吴凯龙;刘增树;许颖超;张海强;李旭光 | 申请（专利权）人： | 中电环宇（北京）建设工程有限公司 |
| 主分类号： | F24F8/108 | 分类号： | F24F8/108;F24F13/28;F24F13/02 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 马环丽 |
| 地址： | 100089 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种用于半导体厂房的洁净室，属于洁净室的技术领域，其包括洁净工作室,所述洁净工作室包括用于高精度加工的洁净工作区以及用于半导体前制程加工的加工服务区,所述洁净工作区与所述加工服务区之间设置有分隔区，所述分隔区内间隔设置有挡帘，所述挡帘沿所述分隔区的长度方向布置，相邻所述挡帘相互远离的两侧均设置有用于过滤空气的过滤组件，所述过滤组件包括沿所述分隔区间隔布置的第一过滤网以及第二过滤网，所述洁净工作区与所述加工服务区内均设置有用于输送洁净空气的第一通风系统,所述分隔区设置有用于输送洁净空气的第二通风系统。本申请具有提高洁净室内的空气洁净度的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体 厂房 洁净室 | ||
【主权项】：
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