[发明专利]基板研磨方法及基板的金属层的去除方法在审

专利信息
申请号: 202310514748.2 申请日: 2018-05-02
公开(公告)号: CN116330148A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 福永明;渡边和英;小畠严贵;辻村学 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B24B37/005 分类号: B24B37/005;H01L21/768;B24B37/04;H01L21/66;B24B37/015;H01L21/321
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 肖华
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于使具有凹凸的基板平坦化。本发明提供一种对基板进行化学机械性研磨的方法,该方法具有:使用处理液来研磨基板的步骤;及变更有助于基板的研磨的所述处理液的有效成分浓度的步骤。
搜索关键词: 研磨 方法 金属 去除
【主权项】:
暂无信息
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