[发明专利]光罩、阵列基板及其制作方法、显示面板及电子设备在审
申请号: | 202310534102.0 | 申请日: | 2023-05-10 |
公开(公告)号: | CN116560182A | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 王邦水 | 申请(专利权)人: | 潍坊歌尔微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/60 | 分类号: | G03F1/60;G03F1/38 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 刘瑞花 |
地址: | 261000 山东省潍坊市高新区新城*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种光罩、阵列基板及其制作方法、显示面板及电子设备,光罩包括基体和设置于基体上的图案层,基体为凸透镜。图案层一般由不透光的材料制成,图案层形成有图形,经过曝光、显影、蚀刻等工序后能够将对应的图形转移到基板上。当光线通过图案层的孔隙时会发生散射,造成实际入射到光阻层上的关键尺寸偏宽,降低了最终产品的精度。该光罩通过将基体成设计为由凸透镜制成,光线通过图案层的间隙入射到凸透镜上,虽然同样会产生光的散射,但当光线穿过凸透镜时,由于凸透镜具有汇聚光线的作用,能够减小或抵消光的散射作用,使得穿过凸透镜后入射到光阻层上的光线与光罩的实际间隙大小相同或更相近,提高了制作精度。 | ||
搜索关键词: | 阵列 及其 制作方法 显示 面板 电子设备 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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