[发明专利]工艺腔室控压设备标定方法、标定装置及半导体工艺设备

摘要

本发明提供一种工艺腔室控压设备标定方法、标定装置及半导体工艺设备，用于标定基准位置，标定方法包括：在所述控压设备断电后重新上电时，获取所述阀门在上电前的停机开度数据；根据所述停机开度数据，确定所述阀门的当前开度；计算所述阀门的开度由所述当前开度达到预设开度对应的所述驱动电机的运转参数的目标调节值；控制所述驱动电机的运转参数达到所述目标调节值，使得所述阀板移动至预设开度对应的基准位置。采用本发明的标定方法来标定基准位置时，无需设置光电开关，从根本上解决了因光电开关损坏而导致无法标定的问题，该标定方法的可靠性高。