[发明专利]系统级芯片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202310685324.2 申请日: 2023-06-12
公开(公告)号: CN116454088B 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 宁丹;向建军 申请(专利权)人: 成都锐成芯微科技股份有限公司;上海锐麟微电子有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L29/423;H01L21/8234
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610041 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种系统级芯片及其制备方法,其中系统级芯片包含:嵌入式存储模块、及其外围的数字模块,嵌入式存储模块中包含至少一个嵌入式存储单元,数字模块中包含第一MOS晶体管和至少一个标准单元;其中所述的标准单元包含第二MOS晶体管,所述的嵌入式存储单元包含第三MOS晶体管,第一、第二、和第三MOS晶体管各自包含一个栅极及其下方的栅氧层,其中第二和第三MOS晶体管的栅氧层厚度相同,都比第一MOS晶体管的栅氧层薄。本发明系统级芯片中外围标准单元和存储单元中的中栅氧晶体管,具有更小的面积、更低的工作电压、更小的功耗。
搜索关键词: 系统 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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